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A、申请资料包括: 1)进口旧半导体晶圆产品备案申请书 2)申请人、收货人、发货人营业执照(复印件) 3)装运前预检验申请书 4)拟进口旧半导体晶圆产品清单(按标准格式填写,一式两份,要求以电脑打制。) 5)进口上海半导体晶圆设备描述(按网上标准格式填写) 6)其它材料(8年前制造的旧半导体晶圆产品原则上均需提供产品彩色图片/照片;制造年限久的半导体晶圆如在发运前已经维修整理,申请人可提供相关记录与证明;进口的二手大型成套半导体晶圆需提供半导体晶圆配置图、工艺流程图等资料。) 7)进口用于销售、租赁或者维修等用途且国家实施强制性产品认证制度、进口质量许可管理以及有其他规定要求的旧半导体晶圆产品的,备案申请人申请备案时必须提供相应的证明文件(复印件) 8)合同或协议(进口负责人:马经理 ) 9)进口旧半导体晶圆产品拟备案工作联系单(需办理半导体晶圆证时提供) B、申请人提交的进口旧半导体晶圆产品清单应符合如下要求: 1)清单一式两份,必须打印,除核销栏不填外,其余栏目均需填写齐全,不得涂改。 2)数量、金额栏要总计,合同金额如以其它币种结算必须同时以美圆计。 3)为防止频繁更改,申请人填写的HS编码事先应经海关相关部门确认; 4)半导体晶圆状态栏的填写要求为: 已经使用,仍具备基本功能和一定使用价值的半导体晶圆产品; 未经使用但存放时间过长,**过质量保证期的半导体晶圆产品; 未经使用但存放时间过长,部件产生明显有形损耗的半导体晶圆产品;
新旧部件混装的半导体晶圆产品; 1.中国国内进口半导体晶圆的用户/收货人向当地直属检验检疫局申请《进口半导体晶圆装运前检验备案书》。 2.中国国内用户/收货人取得《备案书》后向中国检验认证(集团)中国香港有限公司(CCIC Hongkong)申请装运前检验。 装运前检验申请资料包括: 1.AQSIQ 或CIQ 签发的进口半导体晶圆装运前检验备案书及进口半导体晶圆清单) 2.AQSIQ 或CIQ 签发的进口半导体晶圆装运前检验*通知单) 3.进口半导体晶圆装运前检验申请书)
4.授权委托书)准备资料---备案---中国香港中检(标准物流方案B) --批文------进口申报 1.进口货物以海关审定的成交价格为基础的到岸价格作为完税价格。其成交价格经海关审查未能确定的,应以该货物的同一出口国或地区购进的相同或者类似货物的成交价格为基础;再未能确定的,应以相同或类似进口货物在国内市场的批发价格,减去进口关税、进口环节其他税收以及进口后的运输、仓储、营业费用及利润作为完税价格。
2.对一些特殊进口货物,如运往境外修理的机械器具、运输工具或其他货物,出境时已向海关报明并在海关规定期限内复运出境的,应以海关审定的修理费和料件费作为完税价格;对运往境外加工的货物,出境时已向海关报明并在规定期限内复运进境的,应以加工后的货物进境时的到岸价格与原出境货物或者相同、类似的货物在进境时的到岸价格之间的差额,作为完税价格;对于租赁,包括租借方式进口的货物,以海关审定的货物的租金作为完税价格. 2、旧设备商检预检备案专业、快速。 3、发货地CCIC检验事前指导,确保国外CCIC审核通过。 4、商品归类:31名海关认可的归类师帮助您以合理的成本进口,同时避免事后更改《装运前检验检疫证书》上海关商品编码的麻烦。5、预审价:根据我们多年的经验,协助客户提出价格合理化建议,确保顺利清关。 6、应急处理:*团队为您提供备选应急方案。 附件:常见的半导体晶圆设备品牌型号: 1、单晶炉 设备名称:单晶炉。 海关编码:8486109000 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号 设备功能:熔融半导体晶圆材料,拉单晶,为后续半导体晶圆器件制造,提供单晶体的半导体晶圆晶坯。 主要企业(品牌): 国际:德国PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美国QUANTUM DESIGN公司、德国Gero公司、美国KAYEX公司。 国内:北京京运通、七星华创、北京京仪世纪、河北晶龙阳光、西安理工晶科、常州华盛天龙、上海汉虹、西安华德、中国电子科技集团*四十八所、上海申和热磁、上虞晶盛、晋江耐特克、宁夏晶阳、常州江南、合肥科晶材料技术有限公司、沈阳科仪公司。 2、气相外延炉 商品名称:气相外延炉 海关编码:8486202100 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号 设备功能:为气相外延生长提供特定的工艺环境,实现在单晶上,生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体,为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺,其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续,而且与衬底的晶向保持对应的关系。 主要企业(品牌): 国际:美国CVD Equipment公司、美国GT公司、法国Soitec公司、法国AS公司、美国ProtoFlex公司、美国科特?莱思科(Kurt J.Lesker)公司、美国Applied Materials公司。 国内:中国电子科技集团*四十八所、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术有限公司、北京金盛微纳、济南力冠电子科技有限公司。 上海单晶炉设备可以进口吗海关编码/关税 3、分子束外延系统(MBE,Molecular Beam Epitaxy System) 商品名称:分子束外延系统 海关编码:8486202900 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号 设备功能:分子束外延系统,提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺设备;分子束外延工艺,是一种制备单晶薄膜的技术,它是在适当的衬底与合适的条件下,沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜。 主要企业(品牌): 国际:法国Riber公司、美国Veeco公司、芬兰DCA Instruments公司、美国SVTAssociates公司、美国NBM公司、德国Omicron公司、德国MBE-Komponenten公司、英国Oxford Applied Research(OAR)公司。 国内:沈阳中科仪器、北京汇德信科技有限公司、绍兴匡泰仪器设备有限公司、沈阳科友真空技术有限公司。 4、氧化炉(VDF) 商品名称:分子束外延系统 海关编码:8417809090 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号 监管条件: 6旧机电产品禁止进口 O自动进口许可证(新旧机电产品) A入境货物通关单 设备功能:为半导体晶圆材料进行氧化处理,提供要求的氧化氛围,实现半导体晶圆预期设计的氧化处理过程,是半导体晶圆加工过程的不可缺少的一个环节。 主要企业(品牌): 国际:英国Thermco公司、德国Centrothermthermal solutions GmbH Co.KG公司。 国内:北京七星华创、青岛福润德、中国电子科技集团*四十八所、青岛旭光仪表设备有限公司、中国电子科技集团*四十五所。 5、低压化学气相淀积系统(LPCVD,Low Pressure Chemical Vapor Deposition System) 设备名称:低压化学气相淀积系统 设备功能:把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入LPCVD设备的反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜。 主要企业(品牌): 国际:日本日立国际电气公司、 国内:上海驰舰半导体晶圆科技有限公司、中国电子科技集团*四十八所、中国电子科技集团*四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。 6、等离子体增强化学气相淀积系统(PECVD,Plasma Enhanced CVD) 商品名称:等离子体增强化学气相淀积系统 海关编码:8486202100 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号 设备功能:在沉积室利用辉光放电,使其电离后在衬底上进行化学反应,沉积半导体晶圆薄膜材料。 主要企业(品牌): 国际:美国Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本岛津公司、美国泛林半导体晶圆(Lam Research)公司、荷兰ASM国际公司。 国内:中国电子科技集团*四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。 7、磁控溅射台(MagnetronSputter Apparatus) 商品名称:磁控溅射台 海关编码:8479899990 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:通过二较溅射中一个平行于靶表面的封闭磁场,和靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域,实现高离子密度和高能量的电离,把靶原子或分子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜。 主要企业(品牌): 国际:美国PVD公司、美国Vaportech公司、美国AMAT公司、荷兰Hauzer公司、英国Teer公司、瑞士Platit公司、瑞士Balzers公司、德国Cemecon公司。 国内:北京仪器厂、沈阳中科仪器、成都南光实业股份有限公司、中国电子科技集团*四十八所、科睿设备有限公司、上海机械厂。 8、化学机械抛光机(CMP,Chemical Mechanical Planarization) 商品名称:化学机械抛光机 海关编码:8486909900 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:通过机械研磨和化学液体溶解“腐蚀”的综合作用,对被研磨体(半导体晶圆)进行研磨抛光。 主要企业(品牌): 国际:美国Applied Materials公司、美国诺发系统公司、美国Rtec公司、。 国内:兰州兰新高科技产业股份有限公司、爱立特微电子。 9、光刻机(Stepper,Scanner) 商品名称:光刻机 海关编码:8486203100 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能: 在半导体晶圆基材上(硅片)表面匀胶,将掩模版上的图形转移光刻胶上,把器件或电路结构临时“复制”到硅片上。 主要企业(品牌): 国际:荷兰阿斯麦(ASML)公司、美国泛林半导体晶圆公司、日本尼康公司、日本Canon公司、美国ABM公司、德国德国SUSS公司、美国MYCRO公司。 国内:中国电子科技集团*四十八所、中国电子科技集团*四十五所、上海机械厂、成都南光实业股份有限公司。 10、反应离子刻蚀系统(RIE,Reactive Ion Etch System) 海关编码:8479899990 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:6如申报品名为旋流站请注明是否为离心式 设备功能:。平板电极间施加高频电压,产生数百微米厚的离子层,放入式样,离子高速撞击式样,实现化学反应刻蚀和物理撞击,实现半导体晶圆的加工成型。 主要企业(品牌): 国际:日本Evatech公司、美国NANOMASTER公司、新加坡REC公司、韩国JuSung公司、韩国TES公司。 国内:北京仪器厂、北京七星华创电子有限公司、成都南光实业股份有限公司、中国电子科技集团*四十八所。 11、ICP等离子体刻蚀系统(ICP, Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching System) 商品名称:8486204100 海关编码:8479899990 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能: 设备功能:一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中,在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体,一方面等离子体中的活性基团与待刻蚀表面材料发生化学反应,生成可挥发产物;另一方面等离子体中的离子在偏压的作用下被引导和加速,实现对待刻蚀表面进行定向的腐蚀和加速腐蚀。 主要企业(品牌): 国际:英国牛津仪器公司、美国Torr公司、美国Gatan公司、英国Quorum公司、美国利曼公司、美国Pelco公司。 国内:北京仪器厂、北京七星华创电子有限公司、中国电子科技集团*四十八所、戈德尔等离子科技(中国香港)控股有限公司、中国科学院微电子研究所、北方微电子、北京东方中科集成科技股份有限公司、北京创世威纳科技。 12、离子注入机(IBI,Ion Beam Implanting) 商品名称:离子注入机 海关编码:8486205000 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:设备功能:对半导体晶圆表面附近区域进行掺杂。 主要企业(品牌): 国际:美国维利安半导体晶圆设备公司、美国CHA公司、美国AMAT公司、Varian半导体晶圆制造设备公司(被AMAT收购)。 国内:北京仪器厂、中国电子科技集团*四十八所、成都南光实业股份有限公司、沈阳方基轻工机械有限公司、上海硅拓微电子有限公司。 13、探针测试台(VPT,Wafer prober Test) 商品名称:探针测试台 海关编码:9030849000 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:设备功能:通过探针与半导体晶圆器件的pad接触,进行电学测试,检测半导体晶圆的性能指标是否符合设计性能要求。 主要企业(品牌): 国际:德国Ingun公司、美国QA公司、美国MicroXact公司、韩国Ecopia公司、韩国Leeno公司。 国内:中国电子科技集团*四十五所、北京七星华创电子有限公司、瑞柯仪器、华荣集团、深圳市森美协尔科技。 14、晶片减薄机(Back-sideGrinding) 商品名称:晶片减薄机 海关编码:8486209000 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:设备功能:通过抛磨,把晶片厚度减薄。 主要企业(品牌): 国际:日本DISCO公司、德国G&N公司、日本OKAMOTO公司、以色列Camtek公司。 国内:兰州兰新高科技产业股份有限公司、深圳方达研磨设备制造有限公司、深圳市金实力精密研磨机器制造有限公司、炜安达研磨设备有限公司、深圳市华年风科技有限公司。 15、晶圆划片机(DS,Die Sawwing) 海关编码:8486209000 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:主要企业(品牌): 国际:德国OEG公司、日本DISCO公司。 国内:中国电子科技集团*四十五所、北京科创源光电技术有限公司、沈阳仪器仪表工艺研究所、西北机器有限公司(原国营西北机械厂709厂)、汇盛电子电子机械设备公司、兰州兰新高科技产业股份有限公司、大族激光、深圳市红宝石激光设备有限公司、武汉三工、珠海莱联光电、珠海粤茂科技。 16、引线键合机(Wire Bonder) 海关编码:8486402200 关税税率:0% 增值税率:17% 申报要素:1品名 2用途 3功能 4品牌 5型号设备功能:设备功能:把半导体晶圆芯片上的Pad与管脚上的Pad,用导电金属线(金丝)链接起来。 主要企业(品牌): 国际:美国奥泰公司、德国TPT公司、奥地利奥地利FK公司、马来西亚友尼森(UNISEM)公司。 国内:中国电子科技集团*四十五所、北京创世杰科技发展有限公司、宇芯(成都)集成电路封装测试有限公司(马来西亚友尼森投资)、深圳市开玖自动化设备有限公司。 1、单晶炉: 德国PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美国QUANTUM DESIGN公司 2、气相外延炉: 美国CVD Equipment公司、美国GT公司、法国Soitec公司 3、分子束外延系统: 法国Riber公司、美国Veeco公司、芬兰DCA Instruments公司 4、氧化炉: 英国Thermco公司、德国Centrotherm thermalsolutions GmbH Co.KG公司 5、低压化学气相淀积系统: 日本日立国际电气公司 6、等离子体增强化学气相淀积系统: 美国Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本岛津公司 7、磁控溅射台: 美国PVD公司、美国Vaportech公司、美国AMAT公司 8、化学机械抛光机: 美国Applied Materials公司、美国诺发系统公司、美国Rtec公司 9、光刻机: 荷兰阿斯麦(ASML)公司、美国泛林半导体晶圆公司、日本尼康公司 10、反应离子刻蚀系统: 日本Evatech公司、美国NANOMASTER公司、新加坡REC公司 11、ICP等离子体刻蚀系统: 英国牛津仪器公司、美国Torr公司、美国Gatan公司 12、离子注入机: 美国维利安半导体晶圆设备公司、美国CHA公司、美国AMAT公司 13、探针测试台: 德国Ingun公司、美国QA公司、美国MicroXact公司 14、晶片减薄机: 日本DISCO公司、德国G&N公司、日本OKAMOTO公司 15、晶圆划片机: 德国OEG公司、日本DISCO公司
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